當(dāng)前位置:上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司>>CVD氣相沉積>>等離子體增強(qiáng)CVD管爐>> OTF-1200X-II-PEC41200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)
設(shè)備名稱
1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)—OTF-1200X-II-PEC4
產(chǎn)品提示
1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請?zhí)崾?nbsp; 4、配件妥善保管提示
產(chǎn)品特點(diǎn)
? 爐體可在0 ~ 25°內(nèi)傾斜有利于粉末樣品的裝入和取出
? 射頻電源可實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)從而顯著降低實(shí)驗(yàn)溫度
? 齒輪驅(qū)動(dòng)管式爐旋轉(zhuǎn)可有效地提高復(fù)合粉末熱處理的均勻性
? 4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可以對氣體的輸送進(jìn)行精確的調(diào)控
? 集成在前端的帶鎢絲加熱的坩堝舟可以對前驅(qū)體進(jìn)行蒸發(fā)用于后續(xù)的混合物理化學(xué)氣相沉積階段。
加熱爐參數(shù)
? 最高溫度:1200oC(<30min),連續(xù)工作溫度:1100℃;
? 兩個(gè)PID溫度控制器及30段可編程溫控系統(tǒng);
? 輸入功率:208-240V,單相,最大功率:2.5KW;
? 高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗;
? 回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度:2-10rpm;
? 爐體開啟式設(shè)計(jì),以達(dá)到對樣品快速降溫,方便更換爐管。
蒸發(fā)舟參數(shù)
? 0.7mL氧化鋁坩堝(由鎢絲加熱圈包圍);
? S型熱電偶插入坩堝中實(shí)現(xiàn)對蒸發(fā)物料的精確測溫;
? 最高溫度可達(dá)1300℃(<1h),長期使用溫度:1200℃(當(dāng)管內(nèi)溫度達(dá)800℃時(shí),蒸發(fā)舟溫度可達(dá)1500℃)。
射頻電源
真空系統(tǒng)
? 采用TRP-12的雙旋真空泵;
? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵;
? 真空度可達(dá)10-2Torr。
供氣系統(tǒng)
? 四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%);
? 流量范圍:一路 0-100 sccm二路 0-200 sccm三路 0-200 sccm四路 0-500 sccm
? 電壓:208-240V, AC, 50/60Hz;
? 氣體進(jìn)出口配件:6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管;
? 不銹鋼針閥用于手動(dòng)控制氣體進(jìn)出;
? PLC觸摸屏可以簡便地進(jìn)行氣體流量設(shè)置。
產(chǎn)品尺寸和重量
? 爐體尺寸:2800mm L ′ 800mm W ′1700mm H;
? 混氣系統(tǒng)尺寸:600mmL′850mm W′700mm
? 凈重:180kg
承諾
? 一年質(zhì)保期,終身維護(hù)(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件)
? 因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。